【英文标准名称】:Technicalproductdocumentation-Protectionnoticesforrestrictingtheuseofdocumentsandproducts
【原文标准名称】:技术产品文件限制文献和产品使用的保护通告
【标准号】:ISO16016-2000
【标准状态】:现行
【国别】:国际
【发布日期】:2000-09
【实施或试行日期】:
【发布单位】:国际标准化组织(IX-ISO)
【起草单位】:ISO/TC10
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:专利保护;保护权;保护面罩;专利;产品;文献;著作权;产品文件;版权;利用;;作标记;定义;定义;缩写
【英文主题词】:Applications;Copyright;Definitions;Documents;Limitation;Marking;Patents;Productprotection;Products;Productsdocumentation;Protectionbyapatent;Protectionmarks;Protectiveright;Shortforms;Trademarks;Usagerights;Use;Utilization
【摘要】:ThisInternationalStandardspecifiestheprotectionnoticeswhichservetopreventtheimproperuseofdocumentsandproductswhoseusageisrestricted.Withthebenefitofauniformtext,protectionnoticesdrawattentiontotheexistenceofanindustrialpropertyrightorcopyright.Furthermore,theyclearlyshowthattheowneroftherightclaimslegalprotectiontothefullestextentand,inadditiontothis,theyrestricttheutilizationofthedocumentsorproductsconcerned.
【中国标准分类号】:J01
【国际标准分类号】:01_110
【页数】:6P.;A4
【正文语种】:英语
基本信息
| 标准名称： | 硅抛光片表面平整度测试方法 |
| 英文名称： | Test methods for surface flatness of silicon polished slices |
| 中标分类： |
冶金 >>
金属理化性能试验方法 >>
金属物理性能试验方法 |
| ICS分类： |
|
| 替代情况： | GB 6621-1986;被GB/T 6621-2009代替 |
| 发布部门： | 国家技术监督局 |
| 发布日期： | 1995-04-18 |
| 实施日期： | 1995-01-02 |
| 首发日期： | 1986-07-26 |
| 作废日期： | 2010-06-01 |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会 |
| 归口单位： | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 电子部标准化所 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 1900-01-01 |
| 页数： | 平装16开， 页数：11， 字数：21千字 |
适用范围
本标准规定了用相干光的干涉现象测量硅抛光片表面平整度的方法。本标准适用于检测硅抛光片的表面平整度，也适用于检测硅外延片和类镜面状半导体晶片的表面平整度。
前言
没有内容
目录
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引用标准
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所属分类： 冶金 金属理化性能试验方法 金属物理性能试验方法